光刻機有好多種，而呢到講既，就係可以生產到最先進CPU晶片既光刻機，呢個Market，而家ASML呢間荷蘭公司一間獨大
但ASML獨大以前，其實係有Nikon同Canon，由3間變1間既過程入面，轉折點就係193nm浸潤式光刻機開始
以前，所有光刻機都係乾既，無液體參與，1987年果時，IBM仲有大量晶片Foundry業務，同年，張忠謀創立左台積電，而又係同一年，有個工程師係IBM既Foundry工廠入面，見到顯微鏡入面既水，產生靈感，提出張光刻工藝浸係水入面既新Idea，因為當時呢個Theory太新，而晶片生產技術又未去到咁前，所以大家都聽住先，無行動。
到2002年，IBM, Intel, 台積電都面對同一個問題，就係CPU越黎越難做，傳統既193nm光刻機，要推進到65nm好困難，呢個時候Nikon同Canon推出左157nm光刻機，但效果唔好，果時有人提出用極紫外線EUV黎做光刻，有成13nm，但EUV個能量損失太大，果時技術根本未做到。
呢個時候，浸潤式光刻機就變成正確方向，當時IBM, Intel, Nikon, Canon, TI, ASML都有興趣，但最後真係做既，就只有ASML
ASML主導，台積電提供協助，3年之後，浸潤式光刻機正式誕生，其它做光刻機既廠即刻落後，相繼退出光刻機業務
當年提出浸潤式光刻機既IBM工程師，就係林本堅，1990年離開IBM後創業失敗，再入翻台積電到做
林本堅耶撚黎，邊個講耶撚出唔到科學家
2007年，台積電用ASML既浸潤式光刻機成功將45nm投產，同年IBM都陸續離開Foundry業務
不過Intel功力深厚，好快都做到45nm，當年既排名係咁：
第1： 台積電、Intel
第2： 台聯電、Global Foundry
第3： Samsung
點解Samsung可以由當年第3，跑到今日第1呢，又關台積電事，台積電有個總監級工程師，叫梁孟松
500個Patent，真係痴孖根
梁孟松下面有個PHD，就係FinFET既發明人，將制程進一步推去20nm以下，叫胡正明
胡正明白宮領取國家技術與創新獎章
梁孟松娶左個韓國妹，2009年離開台積電後就去左韓國成均館大學教書，2011年入左Samsung，2014年底，Samsung就比台積電快左半年生產14nm
2011年開始，台積電就開始告梁孟松涉漏機密
到目前為止，所有65nm以下既晶片，都係用同一步193nm浸潤式光刻機，Intel, Samsung, 台積電, 台聯電, Global Foundry, 中芯, 華宏，從來都無禁運過，台積電做到7nm，Samsung做到10nm，中芯做到28nm，完全係工藝同技術問題
而家有部最新既EUV光刻機，可以由193nm一野減到13nm，呢個係跳IFC式既變化，點解ASML可以咁顛？而台積電、Intel、Samsung又有優先買EUV光刻機既權利呢？又要想當年
當年ASML想搞EUV光刻機，個技術難度係相當大，假若ASML將全公司力量都投入去發展EUV最後又失敗既話，間公司一定破產，呢個時候台積電、Intel、Samsung就訓身撐ASML，係ASML股價虛高既時候，買ASML股份，再出人幫ASML研發，個關係已經唔係單純客戶同工廠咁簡單，係真正生死之交
當然，今日ASML已經回購翻D股份，但台積電、Intel、Samsung係參與研發EUV既過程當中，已經熟識EUV工藝，又可以優先買EUV光刻機，台積電、Intel、Samsung既技術優勢，就係咁黎
