（巨大化光刻機）中國新EUV光刻機方案（SSMB-EUV）

佢就係想走反射鏡變直射因為整唔掂
直接將部機放大變做車間 不計成本損耗去射
不過佢唔諗吓咁大束光點focus 同埋個鏡頭一樣整唔掂

已經起到依個程度

原來已經實行中，仲以為仲係理論階段
中國應該比美帝逼到好大壓力
希望唔好boom

認真問，依家唔算強國？

台灣清華？

成個城市咁大既"光刻機"整一塊指甲咁大既晶片？ 有冇人解釋下咩玩法

呢個係高能物理用的

因為小型化攪唔掂，咪諗住用人舊橋 大型化夾硬黎
但其實財政上不可行
ASML 個光源250W, 實際用落去做mask 的大分一都唔知有無
EUV 過一過反射鏡無幾十%
佢整咁大部機點傳去光刻機？
分分鐘佢整到1000W去到光刻機得返100W。。。。。